高温等静压烧结Al2O3-ZrO2纳米陶瓷

• 作者: 宫本大树 高濂
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高温等静压烧结 氧化铝-氧化锆 纳米陶瓷
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 495-498
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 1848字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.1999.03.031

摘要

本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol% Al2O3-ZrO2复合粉体,不含有Y2O3作为四方氧化锆的稳定剂. 粉体的煅烧温度为750C,XRD结果表明, 粉体中含100%立方氧化锆相,未发现有Al2O3结晶相存在. 该粉体用高温等静压方法, 在1000C和200MPa的条件下烧结1h,得到了平均晶粒尺寸为50 nm(TEM表征)的致密陶瓷,样品密度为理论密度的98%左右. 对样品抛光表面的XRD定量分析结果表明,其抛光表面的相组成为:55% t-ZrO2-39% m-ZrO2-6% α-Al2O3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高濂	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	165	5315	44.0	64.0
2	宫本大树		3	130	3.0	3.0