氮化铝和莫来石陶瓷衬底的SIMS和XRD研究

• 作者: 岳瑞峰 王佑祥 陈春华
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝 莫来石 二次离子质谱 成分分析
• 年，卷（期）: 1999,（5）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: TQ17
• 字数: 3391字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.1999.05.003

摘要

利用二次离子质谱(SIMS)和X射线衍射(XRD)研究了用于电子封装的以Dy2O3、CaO为添加剂的AlN和以堇青石、BaCO3为添加剂的莫来石陶瓷衬底的物相组成和表面成分,尤其是表面杂质,并利用SIMS尝试探讨了AlN表面热氧化问题.结果表明,AlN和莫来石陶瓷表面不同程度地存在Li、C、F、Na、K、Cl、Ti、Rb等杂质元素的污染;AlN表面存在富O层,在空气中经过850℃10分钟退火后,富O层明显展宽.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	岳瑞峰	中国科学院表面物理国家重点实验室	3	18	3.0	3.0
3	陈春华	中国科学院表面物理国家重点实验室	22	244	8.0	15.0
9	王佑祥	中国科学院表面物理国家重点实验室	4	6	2.0	2.0