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微量薄膜NI-W合金镀层中钨的测定
微量薄膜NI-W合金镀层中钨的测定
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
钨
NI-W合金
光度法
摘要:
研究了微量薄摸NI-W合金镀层中钨的光度法,进行了镀层的溶解、介质选择、显色反应、放置时间及部分离子的干扰试验.测量范围为0ΜG/ML~15ΜG/ML.
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文献信息
篇名
微量薄膜NI-W合金镀层中钨的测定
来源期刊
山西大学学报(自然科学版)
学科
化学
关键词
钨
NI-W合金
光度法
年,卷(期)
1999,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
54-57
页数
4页
分类号
O614.613
字数
语种
中文
DOI
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钨
NI-W合金
光度法
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研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
山西大学学报(自然科学版)
主办单位:
山西大学
出版周期:
季刊
ISSN:
0253-2395
CN:
14-1105/N
开本:
大16开
出版地:
太原市坞城路92号
邮发代号:
22-42
创刊时间:
1960
语种:
chi
出版文献量(篇)
2646
总下载数(次)
7
总被引数(次)
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