SiO2和Al2O3在TiO2表面的成核包覆与成膜包覆

• 作者: 崔爱莉 王亭杰 金涌
• 来源期刊: 化工冶金
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钛 包覆 二氧化硅 三氧化二铝
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 178-181
• 分类号: O612.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1009-606X.1999.02.013

摘要

从理论和实验上研究了TiO2表面包覆的机理和工艺条件,分析了TiO2成膜包覆与成核包覆的动力学控制因素,并提出了TiO2与包覆物之间的微观结构模型.实验研究了对TiO2进行硅、铝二元包膜的过程,测得二氧化钛在浆液中的等电点为3.6.pH=10左右有最大的Zeta电位,有利于颗粒分散.硅酸聚合速度研究表明,pH=9～10时硅酸聚合速度降低,有利于形成均匀致密的膜,因而最佳包覆pH值为9～10.从XPS谱中钛的2p轨道电子结合能推测,包覆层的硅和铝是以化学键结合于TiO2表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金涌	清华大学化工系	256	5585	39.0	62.0
2	王亭杰	清华大学化工系	39	1802	22.0	39.0
3	崔爱莉	清华大学化工系	25	705	9.0	25.0