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RTD
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MBE
回摆曲线
内容分析
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文献信息
篇名 超高真空CVD生长锗硅外延层及其双晶X射线衍射研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科
关键词
年,卷(期) 1999,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 61
页数 1页 分类号
字数 3020字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.1999.01.012
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期刊影响力
真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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4084
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3
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