TiN/AlN纳米多层膜的研究

• 作者: 李戈扬
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 纳米多层薄膜 反应溅射 调制结构 显微硬度
• 年，卷（期）: 1999,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.1999.11.002

摘要

采用反应溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD,HREM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明:TiN/AlN纳米多层膜有较好的调制结构.小调制周期时,AlN调制层以FCC结构在TiN调制层上外延生长.调制周期增大,AlN调制层中出现六方晶型.TiN/AlN的显微硬度随调制周期的减小单调上升,并在调制周期=2nm时达到最高值HK3293.硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN的形成所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬		109	1036	18.0	25.0