NaI(Tl)晶体对面源全能峰效率刻度的点源模拟法

• 作者: 屈国普 金杰坤 龚学余
• 来源期刊: 核电子学与探测技术
• 学科: 工学
• 关键词: 典源模拟法 面源 效率刻度
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 工作简报
• 页码范围: 311-313
• 分类号: TL8
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-0934.1999.04.017

摘要

介绍了用点源模拟法来刻度面源全能峰效率的方法.并将刻度结果与数值分析法的理论计算值进行了比较,两者在8%内一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	屈国普	中南工学院技术物理系	5	24	3.0	4.0
2	龚学余	中南工学院技术物理系	5	13	2.0	3.0
3	金杰坤	中南工学院技术物理系	1	9	1.0	1.0