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对绝缘子表面电荷积聚机理的讨论
对绝缘子表面电荷积聚机理的讨论
作者:
冯允平
刘志民
邱毓昌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电介质
表面电荷
积聚
机理
摘要:
从电磁场基本方程组出发,给出非均质介质中绝缘子表面电荷积聚的规律,揭示其物理本质和关键影响因素;研究了不同绝缘介质的交界面电荷积聚的方式和特点.用本文提出的理论可以解释文献报导的三种积聚模型,为分析绝缘子表面电荷积聚状况提供了理论依据.
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表面电荷
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文献信息
篇名
对绝缘子表面电荷积聚机理的讨论
来源期刊
电工技术学报
学科
物理学
关键词
电介质
表面电荷
积聚
机理
年,卷(期)
1999,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
65-68
页数
4页
分类号
O4
字数
2899字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-6753.1999.02.015
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
邱毓昌
228
4719
36.0
54.0
2
冯允平
11
190
7.0
11.0
3
刘志民
1
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节点文献
电介质
表面电荷
积聚
机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电工技术学报
主办单位:
中国电工技术学会
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-6753
CN:
11-2188/TM
开本:
大16开
出版地:
北京市西城区莲花池东路102号天莲大厦10层
邮发代号:
6-117
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
8330
总下载数(次)
38
总被引数(次)
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