高能显像技术的发展及应用

• 作者: 陈盛祖
• 来源期刊: 核电子学与探测技术
• 学科: 工学
• 关键词: 正电子 符合 断层
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 74-75
• 页数: 2页
• 分类号: TL8
• 字数: 1950字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-0934.1999.01.018

摘要

文中介绍了高能显像技术的发展和应用,介绍了三种高能准直法,并进行了比较和预测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈盛祖		13	78	5.0	8.0