绿豆下胚轴质膜氧化还原系统及其对水分胁迫的反应

• 作者: 王俊儒 荆家海 高俊凤 龚月桦
• 来源期刊: 干旱地区农业研究
• 学科: 生物学
• 关键词: 绿豆 氧化还原系统 水分胁迫
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 所属期刊栏目: 作物抗旱与生理
• 页码范围: 78-82
• 页数: 5页
• 分类号: Q945.32
• 字数: 2841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7601.1999.01.015

摘要

绿豆幼苗下胚轴质膜存在有能氧化NADH和还原K3Fe(CN)6的氧化还原系统.其最适pH为7.5,最适温度为40℃,去垢剂Triton X-100对膜制剂的氧化还原活性有促进作用.外源电子供体NADH和电子受体K3Fe(CN)6的加入可促进下胚轴组织的H+分泌.水分胁迫下活体质膜和离体质膜的K3Fe(CN)6还原活性都下降,变化趋势相似.