掺铒硫化锌交流电致发光薄膜的表面结构

• 作者: 刘瑞堂 孙书农 柳兆洪 王余姜 陈谋智
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体材料 掺铒硫化锌 交流电致发光 薄膜 介电常数 表面吸附
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 所属期刊栏目: 科研论文
• 页码范围: 108-110
• 分类号: TN304.25|TN383.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.1999.02.010

摘要

对研制的掺铒硫化锌交流电致发光薄膜,进行了表面的X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS) 及发光亮度测量.研究认为薄膜多晶的沉积有择优取向的趋势,表层碳、氧主要来源于吸附与玷污,绝缘层选择高介电常数、低电阻率的材料,可进一步提高器件质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘瑞堂		13	148	5.0	12.0
2	陈谋智		12	82	6.0	9.0
3	王余姜		3	10	1.0	3.0
4	柳兆洪		5	26	3.0	5.0
5	孙书农		4	18	2.0	4.0