辐射、散射近场测量及近场成像技术的研究进展

• 作者: 刘其中 张福顺 张进民 毛乃宏 焦永昌 马金平
• 来源期刊: 西安电子科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 近场测量 辐射 散射 成像
• 年，卷（期）: 1999,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 651-656
• 分类号: TN820
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2400.1999.05.025

摘要

近场技术是近年来兴起的一种先进的测量技术,它已广泛地应用于辐射、散射测量以及目标成像.概述了目前辐射、散射近场测量及近场成像技术理论研究和测量方法的发展现状以及主要研究成果;并探讨了有关这几个分支需要进一步研究的主要问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘其中	西安电子科技大学天线与电磁散射研究所	130	1413	19.0	31.0
2	焦永昌	西安电子科技大学天线与电磁散射研究所	99	1155	17.0	27.0
3	张福顺	西安电子科技大学天线与电磁散射研究所	75	876	16.0	25.0
4	张进民	西安电子科技大学天线与电磁散射研究所	9	38	3.0	6.0
5	毛乃宏	西安电子科技大学天线与电磁散射研究所	27	107	7.0	8.0
6	马金平	西安电子科技大学天线与电磁散射研究所	3	18	1.0	3.0