W/Mo超晶格薄膜的微结构研究

• 作者: 吴亮 张流强 李戈扬 李鹏兴 许俊华 顾明元
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: W/Mo纳米多层膜 超晶格 磁控溅射
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.1999.03.006

摘要

纳米多层膜因常出现物理或力学性能的异常而成为薄膜研究的热点之一.采用XRD和TEM技术研究了W/Mo纳米多层膜微结构.结果表明,W和Mo由于同为体心立方结构,且晶格常数相近,由它们交互重叠形成的纳米多层膜具有柱状晶穿过调制界面外延生长的结构特征,形成多晶超晶格结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾明元	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	82	1649	22.0	37.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	许俊华	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	12	160	7.0	12.0
4	吴亮	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	9	51	4.0	7.0
5	李鹏兴	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	7	46	4.0	6.0
6	张流强	中科院上海冶金研究所	3	10	1.0	3.0