LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO2膜层的刻蚀作用

• 作者: 刘金瑞 汤安东 王秋花 黄永卓
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 液晶显示器件 SiO2膜层 碱性溶液
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 光学工艺及设备
• 页码范围: 74-78
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 2276字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.1999.03.015

摘要

钠钙玻璃基片上的SiO2膜层在很大程度上决定了液晶显示器件(LCD)的化学稳定性及使用寿命.本文以射频溅射法制备的SiO2膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO2膜层不同的刻蚀作用.本文的结论有利于在LCD工艺中更好地保护SiO2膜层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤安东		3	4	2.0	2.0
2	刘金瑞		1	0	0.0	0.0
3	王秋花		2	2	1.0	1.0
4	黄永卓		1	0	0.0	0.0