NiO在USY分子筛、γ-Al2O3及其混合载体上的NO吸附行为和分布规律

• 作者: 曹志松 李全芝 牛国兴 黄曜 黄郁芳
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: NO吸附 USY分子筛 γ-Al2O3 NiO Ni2+分布
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 页码范围: 254-259
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 字数: 3804字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.1999.02.014

摘要

运用红外技术和高斯函数对红外谱图进行分峰拟合,研究了对NiO在USY分子筛、γ-Al2O3和混合载体上的对NO吸附规律,并推断出不同NiO含量时,Ni2+在这些载体上的分布.结果表明:位于γ-Al2O3表面、USY分子筛SⅡ'、SⅠ'位和SⅡ位的Ni2+离子吸附NO时,它们的吸附频率分别为1855～1875、1900和1905cm-1.NiO在γ-Al2O3的体相和表面间存在分布平衡,约有75%NiO存在于γ-Al2O3体相中.在USY分子筛上,Ni2+分布于分子筛SⅠ位的趋势远大于SⅡ和SⅡ'、SⅠ'位.增加NiO含量将增强这种趋势.在混合载体上,Ni2+分布于Al2O3表面的能力大于分布于分子筛的SⅡ和SⅡ'、SⅠ'位,增加NiO量,分布于γ-Al2O3表面及USY分子筛SⅡ位的Ni2+量显著增加,而分布于分子筛SⅡ'、SⅠ'位的Ni2+量受其影响较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牛国兴	复旦大学化学系	19	239	9.0	15.0
2	李全芝	复旦大学化学系	30	653	12.0	25.0
3	黄曜	复旦大学材料系	20	178	7.0	13.0
4	黄郁芳	复旦大学材料系	13	132	4.0	11.0
5	曹志松	复旦大学化学系	2	64	2.0	2.0