亚微米工艺流程研究

• 作者: 刘逵 徐征 梁斌 毛志军 肖志强 赵文彬 陶建中
• 来源期刊: 系统工程与电子技术
• 学科: 经济
• 关键词: 晶体结构 工艺设计 +亚微米技术
• 年，卷（期）: 1999,（6）
• 所属期刊栏目: 实用技术
• 页码范围: 77
• 页数: 1页
• 分类号: F2
• 字数: 1893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-506X.1999.06.020

摘要

介绍了在中国华晶中央研究所1.0微米工艺线上所开发的亚微米(0.8μm)工艺流程,重点介绍了0.8μm器件结构、工艺流程图、关键工艺设计以及用此流程制造出的0.8μm器件的各项PCM参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐征	中国华晶电子集团公司中央研究所	2	5	1.0	2.0
2	肖志强	中国华晶电子集团公司中央研究所	1	0	0.0	0.0
3	陶建中	中国华晶电子集团公司中央研究所	1	0	0.0	0.0
4	刘逵	中国华晶电子集团公司中央研究所	1	0	0.0	0.0
5	梁斌	中国华晶电子集团公司中央研究所	1	0	0.0	0.0
6	赵文彬	中国华晶电子集团公司中央研究所	1	0	0.0	0.0
7	毛志军	中国华晶电子集团公司中央研究所	1	0	0.0	0.0