阿霉素在钴离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用

• 作者: 支瑶 李启隆 胡劲波
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 阿霉素 电化学行为 离子注入 修饰电极
• 年，卷（期）: 1999,（11）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 1280-1283
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 1910字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.1999.11.009

摘要

阿霉素在0.1 mol/L HAc-NaAc(pH 4.62)缓冲溶液中用注入钴的修饰玻碳电极为工作电极进行伏安测定,得到一良好的还原峰,Ep=-0.522 V(vs.SCE).峰电流与阿霉素浓度在1.4×10-7～1.4×10-6mol/L和1.4×10-6～5.6×10-5mol/L范围内呈线性关系.检出限为5.0×10-3mol/L.并用于尿样的测定,得到满意的结果.用线性扫描和循环伏安法研究了体系的电化学行为及电极反应机理.电极反应属准可逆过程.用AES和XPS等表面分析技术检测了注入电极表面的元素组成、价态和深度分布,对离子注入电极的催化性质进行探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡劲波	北京师范大学化学系	47	423	13.0	18.0
2	李启隆	北京师范大学化学系	48	405	13.0	17.0
3	支瑶	北京师范大学化学系	4	54	4.0	4.0