TiN/AlN纳米混合膜的微结构及力学性能

• 作者: 吴亮 施晓蓉 李戈扬 李鹏兴 辛挺辉
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米薄膜 磁控溅射 硬度
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 页码范围: 162-164
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-2467.1999.02.011

摘要

通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了TiN/AlN纳米混合膜.采用XRD衍射、TEM和显微硬度等测试方法对TiN/AlN纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究.结果表明,TiN/AlN纳米混合膜的晶粒大小为10～20 nm;薄膜总体表现出硬度增强效果,在TiN∶AlN(体积比)≈1∶1时,薄膜硬度获得极大值HK32.25GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	施晓蓉	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	4	29	3.0	4.0
3	吴亮	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	9	51	4.0	7.0
4	李鹏兴	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	7	46	4.0	6.0
5	辛挺辉	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	1	13	1.0	1.0