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钇离子注入硅薄层硅化钇-的合成-的研究
钇离子注入硅薄层硅化钇-的合成-的研究
作者:
吴瑜光
张通和
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篇名
钇离子注入硅薄层硅化钇-的合成-的研究
来源期刊
功能材料
学科
关键词
年,卷(期)
2000,(Z1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
62
页数
3页
分类号
字数
2682字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1001-9731.2000.Z1.024
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期刊影响力
功能材料
主办单位:
重庆材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-9731
CN:
50-1099/TH
开本:
16开
出版地:
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮发代号:
78-6
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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