纳米加工中的光驻波场研究

• 作者: 姚汉民 康西巧 李展 罗先刚 陈元培 陈献忠
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米加工 光驻波 光强分布
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 25-29
• 页数: 5页
• 分类号: O436.1
• 字数: 2757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2000.06.007

摘要

介绍了纳米加工中的光驻波场，分别对单反射面和双反射面形成的驻波进行了分析，并对不同区域的光强分布进行了理论推导。最后对如何形成高质量的光驻波场进行了探讨。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈献忠	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	17	75	4.0	8.0
2	姚汉民	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	44	355	9.0	16.0
3	李展	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	21	187	8.0	13.0
4	罗先刚	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	52	315	9.0	15.0
5	陈元培	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	12	54	4.0	7.0