基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在15K测量了不同尺寸分布的In0.55A10.45As/Al0.5Ga05As量子点的静压光致发光,静压范围为0-1.3GPa.常压下观察到三个发光峰,分别来源于不同尺寸的量子点(横向直径分别为26、52和62am)的发光.它们的压力系数分别为82、94和98meV/Gpa,都小于In0.55Al0.45As体材料带边的压力系数,特别是尺寸为26nm的小量子点比In0.55Al0.45As体材料带边小17%,并且压力系数随量子点尺寸的变小而减小.理论计算表明有效质量的增大和Γ-X混合是量子点压力系数变小的主要原因,并得到横向直径为26和52nm的小量子点的Γ-X混合势为15和10meV.根据实验还确定In0.55Al0.45As/Al0.5Ga0.5As量子点系统X能带具有Ⅱ类结构,并且估算出价带不连续量为0.15±0.02.
推荐文章
Ti0.5Al0.5N涂层的抗高温氧化行为
多弧离子镀
Ti0.5Al0.5N涂层
抗氧化
生长温度对In0.5Ga0.5As/GaAs量子点尺寸的影响
MBE
In0.5Ga0.5As/GaAs量子点
S-K
Ostwald
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 不同尺寸分布的自组织In0.55Al0.45As/Al0.5Ga0.5As量子点的静压光谱
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 In0.55Al0.45As/Al0.5Ga0.5As 量子点 光致发光 静压
年,卷(期) 2000,(11) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1092-1098
页数 7页 分类号 O472+.3
字数 4671字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2000.11.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周伟 中国科学院半导体研究所材料科学实验室 88 475 12.0 18.0
2 李国华 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室 25 99 5.0 9.0
3 韩和相 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室 8 9 2.0 3.0
4 陈晔 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室 15 42 4.0 5.0
5 张旺 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室 8 71 3.0 8.0
6 汪兆平 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室 3 4 1.0 2.0
7 王占国 2 10 1.0 2.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (2)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1997(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1998(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2000(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
In0.55Al0.45As/Al0.5Ga0.5As
量子点
光致发光
静压
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导