微波辐射技术对制备催化剂和邻二甲苯在V2O5／SiO2系催化剂上发生氧化反应

• 作者: 夏颖 雷鸣
• 来源期刊: 苯酐通讯
• 学科: 化学
• 关键词: 微波 邻二甲苯 氧化 五氧化二钒 二氧化硅 催化
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 14-19
• 页数: 6页
• 分类号: O621.254.1

摘要

当温度为Ｃａ５６３Ｋ时，通过微波辐射作用可使邻二甲苯和空气在Ｖ２Ｏ３／ＳｉＯ２系催化剂上发生氧化反应生成的邻苯二甲酸酐（ＰＡＮ）达到６７ｍｏｌ％这一高痃值。经过研究发现，如果采用微波辐射波制备催化剂，可使Ｖ２Ｏ５分更均匀地分散在ＳｉＯ２上。在微波辐射催化过程中，总反应的床最适温度下降到了５６３Ｋ，正文中还讨论了研究了微波电磁场对催化剂剂产生的影响作用。