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大气环境下多晶硅薄膜的疲劳性能
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多晶硅
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关键词云
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文献信息
篇名 HWLPCVD多晶硅薄膜的制备及性能分析
来源期刊 四川真空 学科 工学
关键词 HWLPCVD 多晶硅薄膜 结构 性能 制备
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 23
页数 1页 分类号 TN304.12
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节点文献
HWLPCVD
多晶硅薄膜
结构
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制备
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期刊影响力
四川真空
半年刊
成都市第109信箱207分箱
出版文献量(篇)
395
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