富勒烯作为电子束抗蚀剂在纳米光刻中的应用

• 作者: 夏强 顾宁
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 富勒烯 纳米光刻 电子束抗蚀剂
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 综述报告
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TN304
• 字数: 3326字
• 语种: 中文

摘要

纳米光刻对于纳米电子学的研究与发展具有非常重要的意义.分子尺寸为0.7纳米且可发生电子束诱导聚合的富勒烯(主要是C60),可以作为电子束抗蚀剂,用于电子束纳米光刻,制作纳米级精细图形.这类抗蚀剂主要有三种类型:纯C60、C60衍生物及C60与常用抗蚀剂形成的纳米复合抗蚀剂.介绍了这方面工作的研究现状、存在的问题及发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾宁	东南大学分子与生物分子电子学开放实验室	182	1683	20.0	32.0
2	夏强	东南大学分子与生物分子电子学开放实验室	26	98	6.0	9.0