微光刻技术的发展

• 作者: 侯德胜 冯伯儒 张锦 陈芬
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 光刻极限 准分子激光光刻技术
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 综述报告
• 页码范围: 1-9
• 页数: 9页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 7178字
• 语种: 中文

摘要

阐述了光刻技术的发展及其分辨极限,对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张锦	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	26	204	8.0	13.0
2	冯伯儒	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	30	293	9.0	16.0
3	侯德胜	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	12	150	4.0	12.0
4	陈芬	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	14	170	8.0	13.0