热处理对SiO2—ZrO2两层减反射膜的影响

• 作者: 张吉南 朱耀南
• 来源期刊: 光仪技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 两层减反射膜 剩余反射率 热处理 SiO2-ZrO2
• 年，卷（期）: gyjs_2000,（3）
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: O484.41

摘要

文章指出了ＳｉＯ２－ＺｒＯ２两层减反射膜经过热处理后光学性能发生变化的规律，并对之进行了分析研究，从而应用到实践中解决了生产中出现的问题。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱耀南		4	48	1.0	4.0
2	张吉南		1	0	0.0	0.0