折射微透镜制备中离子束刻蚀过程的计算机模拟

• 作者: 易新建 赵兴荣 陈长虹
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微光学 微透镜 离子束刻蚀 模拟
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 离子束技术
• 页码范围: 34-38,33
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 1551字
• 语种: 中文

摘要

建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程.通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射状态下所得到的折射微透镜的截面轮廓,为优化离子束的刻蚀工艺奠定基础,同时也可以确定刻蚀过程的终点时刻.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中理工大学光电子工程系	20	146	7.0	11.0
2	赵兴荣	华中理工大学光电子工程系	4	9	2.0	3.0
3	陈长虹	华中理工大学光电子工程系	4	4	1.0	2.0