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InGaAs/InAlAs RTD I-V特性的量子力学隧穿模拟
InGaAs/InAlAs RTD I-V特性的量子力学隧穿模拟
作者:
何红波
周继承
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
共振隧穿二极管
量子力学隧穿模拟
砷化镓
I-V
摘要:
本文通过数值求解含时Schrodinger方程得到了InGaAs/InAlAs共振隧穿二极管 (RTD)的电流 偏压曲线 ,我们发现数值模拟的结果与实验符合得很好。
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文献信息
篇名
InGaAs/InAlAs RTD I-V特性的量子力学隧穿模拟
来源期刊
半导体杂志
学科
工学
关键词
共振隧穿二极管
量子力学隧穿模拟
砷化镓
I-V
年,卷(期)
2000,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
31-34
页数
4页
分类号
TN304.26
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节点文献
共振隧穿二极管
量子力学隧穿模拟
砷化镓
I-V
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期刊影响力
半导体杂志
主办单位:
电子部天津电子材料研究所
天津市电子学会
出版周期:
季刊
ISSN:
1005-3077
CN:
12-1134/TN
开本:
16开
出版地:
天津市河西区陈塘庄岩峰路
邮发代号:
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
总被引数(次)
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