同步辐射光刻均匀性最优控制

• 作者: 刘同怀 王荣生 郭从良
• 来源期刊: 核电子学与探测技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 均匀性 最优控制
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 37-39
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7|TP273+.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-0934.2000.01.010

摘要

在同步辐射光刻光束线和实验站上进行大规模集成电路光刻,其均匀性问题直接影响暴光样品的成品率.利用计算机对暴光均匀性信号进行快速精细在线测量.讨论了光刻光束线在线实时控制系统和它的基本特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘同怀	中国科学技术大学电子科学与技术系	11	87	5.0	9.0
2	郭从良	中国科学技术大学电子科学与技术系	28	221	9.0	14.0
3	王荣生	中国科学技术大学电子科学与技术系	11	61	5.0	7.0