电子显微术研究含铈铁铬合金的氧化行为

• 作者: 张秀林 朱桂兰 林清英 谢立
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铈 铬 氧化 偏聚
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 365-369
• 页数: 5页
• 分类号: TG132.32
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2000.04.021

摘要

利用SAM,XPS和SEM技术, 研究含铈的铁@tex0- @$18铬合金的氧化膜的形貌特征,测定每间隔数个纳米的不同深度的氧化层的组分 ,分析它的结构状态．动态分析结果，获得了铬向外迁移、改变氧化膜成分和结构 、以及铈向界面扩散和偏聚的试验数据．根据结果进一步探讨了添加微量元素铈 对合金元素铬在氧化过程中扩散的影响

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林清英	钢铁研究总院分析测试所	5	9	1.0	3.0
2	张秀林	北京科技大学应用科学学院	2	1	1.0	1.0
3	朱桂兰	钢铁研究总院分析测试所	6	18	1.0	4.0
4	谢立	钢铁研究总院分析测试所	1	1	1.0	1.0