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新一代光刻技术探讨
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文献信息
| 篇名 | 新一代光刻技术探讨 | ||
| 来源期刊 | 电子信息：印制电路与贴装 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 光刻技术 限极紫外光 X射线 离子投影 | ||
| 年，卷（期） | 2000,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 38-40 | |
| 页数 | 3页 | 分类号 | TN305.7 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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研究主题发展历程
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光刻技术
限极紫外光
X射线
离子投影
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子信息：印制电路与贴装
主办单位：
深圳电子行业协会
出版周期：
月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
深圳市南山区南油大道粤海大厦A座9A-9C室
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
183
总下载数（次）
1
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