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摘要:
采用Mo栅工艺技术降低栅串联电阻,通过优化工艺参数,全离子注入工艺,研制出了在400MHz下共源推挽结构连续波输出300W的高性能VDMOSFET,其漏极效率大于50%,增益大于9dB.
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文献信息
篇名 400MHz,CW 300W VDMOS功率场效应晶体管
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 高频大功率 Mo栅工艺 VDMOSFET
年,卷(期) 2000,(2) 所属期刊栏目 器件研究与制造
研究方向 页码范围 26-28
页数 3页 分类号 TN386.1
字数 1701字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2000.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘英坤 兰州大学物理系 4 6 2.0 2.0
2 王占利 1 0 0.0 0.0
3 何玉樟 1 0 0.0 0.0
4 郎秀兰 1 0 0.0 0.0
5 张大立 1 0 0.0 0.0
6 夏雷 1 0 0.0 0.0
7 吴坚 2 8 1.0 2.0
8 周晓黎 1 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
高频大功率
Mo栅工艺
VDMOSFET
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
总被引数(次)
24788
论文1v1指导