低碳钢在氢氧化钠溶液中电化学腐蚀的影响因素和偏钒酸盐的缓蚀作用

• 作者: 张萍 蒋馥华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 化学
• 关键词: 低碳钢 氢氧化钠 孔蚀 缓蚀剂 电化学腐蚀
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 专论
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: O64|TQ42
• 字数: 3194字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2000.01.009

摘要

用周期伏安法和动电位单向扫描技术研究低碳铜在氢氧化钠溶液中的电化学腐蚀行为.伏安图形状与起始电位、扫描速率和溶液成分有关,氢氧化钠溶液中含氯离子时会产生明显的孔蚀.在不含氯离子和含氯离子的氢氧化钠溶液中9偏钒酸盐对低碳钢可作为缓蚀剂使用.在25～45℃温度区间,偏钒酸根的缓蚀作用无实质性变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张萍	中国地质大学材料与化学工程学院	27	346	9.0	18.0
2	蒋馥华	武汉科技大学化工与资源环境学院	3	84	3.0	3.0