流态化 CVD包硅的 Fe3O4的氧化行为

• 作者: 吴秋芳 朱以华 李春忠
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 流态化包覆 氧化铁 磁粉 氧化动力学
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 26-32
• 页数: 7页
• 分类号: TM272
• 字数: 3014字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2000.01.005

摘要

采用流态化CVD包硅技术制得了表面均匀包覆SiO2的Fe3O4磁粉. 对该包硅Fe3O4磁粉的氧化机理和动力学进行了研究. 结果表明,氧化反应机理符合三维球对称扩散模型,氧化反应活化能随包硅量的增加而增加,流态化CVD包硅能提高Fe3O4磁粉的抗氧化作用在于粒子表面形成了均匀的SiO2保护层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴秋芳	华东理工大学技术化学物理研究所	53	469	12.0	18.0
2	李春忠	华东理工大学技术化学物理研究所	126	1963	22.0	39.0
3	朱以华	华东理工大学技术化学物理研究所	52	1335	20.0	35.0