硅基纳米材料制备技术的新进展

• 作者: 傅广生 彭英才 杜会静
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅基纳米材料 制备技术 可见光发射
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 综述报告
• 页码范围: 6-11
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.1+2
• 字数: 3633字
• 语种: 中文

摘要

近年,硅基低维材料物理与工艺的研究预示,硅基光电子学将是今后半导体光电子学的一个主要发展方向,而对硅基纳米材料的研究一直是本领域的一个研究热点,评述了近年硅基纳米材料在制备技术方面所取得的新进展,并展望了今后的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理系	184	817	13.0	17.0
2	彭英才	河北大学电子信息工程学院	103	593	12.0	19.0
3	杜会静	河北大学物理系	2	8	2.0	2.0