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场致电子发射技术分析
场致电子发射技术分析
作者:
张连俊
罗恩泽
赵立芳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
场致发射
场发射阴极
类金刚石薄膜
高温超导体
场致发射器件
摘要:
本文介绍了场致发射的机理及场致发射的几种不同类型的阴极,叙述了类金刚石薄膜作为场致发射阴极的优点,最后对场致发射的应用进行了分析.
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文献信息
篇名
场致电子发射技术分析
来源期刊
电子器件
学科
工学
关键词
场致发射
场发射阴极
类金刚石薄膜
高温超导体
场致发射器件
年,卷(期)
2000,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
210-213
页数
4页
分类号
TN132
字数
2859字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1005-9490.2000.03.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张连俊
7
12
1.0
3.0
2
罗恩泽
10
17
2.0
4.0
3
赵立芳
4
17
2.0
4.0
传播情况
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2019(3)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
场致发射
场发射阴极
类金刚石薄膜
高温超导体
场致发射器件
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
主办单位:
东南大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-9490
CN:
32-1416/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市四牌楼2号
邮发代号:
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
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