影响铝刻蚀质量的几个因素

• 作者: 朱以胜
• 来源期刊: 集成电路通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 铝刻蚀 本底真空度 大规模集成电路 质量
• 年，卷（期）: jcdltx_2000,（3）
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TN470.57

摘要

讨论了刻蚀设备的本底真空度、腔室衬底温度对铝刻蚀速率、各向异性、选择性和光刻胶完整性等主要参数的影响。还了为队去残余物和防止Ａｌ浸蚀而采取的一些措施和方法。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱以胜		1	0	0.0	0.0