磁参数对六角铁氧体RAM温度稳定性影响

• 作者: 何山 梁迪飞 熊克敏 谢建良 邓龙江
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 六角铁氧体 吸收特性 磁导率 温度稳定性 磁化强度 磁晶各向异性
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文与技术报告
• 页码范围: 61-64
• 页数: 4页
• 分类号: TN277
• 字数: 2055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.2000.01.015

摘要

从磁参数(饱和磁化强度,磁晶各向异性场)温度稳定性出发,对六角铁氧体RAM的温度稳定性进行了讨论;通过对M、W型六角铁氧体在温度t=18～100℃,频率f=8～12GHz时吸收率R(R～f)的温度稳定性和材料起始磁导率μ随温度的变化曲线(μ～t)的测试,得到单轴六角铁氧体材料R～f的温度稳定性优于平面六角铁氧体材料,并且和材料的μ～t变化规律吻合较好的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓龙江	电子科技大学信息材料工程学院	60	754	16.0	25.0
2	何山		13	198	7.0	13.0
3	熊克敏		2	39	2.0	2.0
4	梁迪飞	电子科技大学信息材料工程学院	25	134	7.0	10.0
5	谢建良	电子科技大学信息材料工程学院	25	311	11.0	17.0