CVD法与PCVD法TiN薄膜研究

• 作者: 刘利 刘培英 刘齐成 陶冶
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: CVD法 PCVD法 薄膜
• 年，卷（期）: 2000,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2000.12.007

摘要

用等离子体增强化学气相沉积(PCVD)法和化学气相沉积(CVD)法分别制备TiN系薄膜.采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪研究分析薄膜的微观结构、相结构和薄膜的力学性能,并采用电极电位法测定了薄膜的耐腐蚀性能.研究表明:PCVD法TiN系薄膜的微观组织形态明显优于同类的CVD法薄膜,PCVD法薄膜晶粒尺寸细小、均匀,形态圆整,组织致密;CVD法薄膜晶粒形态为多边形,尺寸较粗大、不均匀,组织致密性差;PCVD法TiN系薄膜的韧性和结合力等力学性能可达到或优于同类CVD法薄膜;虽然PCVD法薄膜的氯含量(约为2%)远高于CVD法薄膜(约为0.5%),但PCVD法薄膜的耐蚀性能却明显优于CVD法薄膜.还研究分析了PCVD法和CVD法成膜模式对薄膜微观结构和性能的影响机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘齐成	北京航天航空大学材料科学与工程系	1	31	1.0	1.0
2	刘培英	北京航天航空大学材料科学与工程系	1	31	1.0	1.0
3	陶冶	北京航天航空大学材料科学与工程系	1	31	1.0	1.0
4	刘利	北京航天航空大学材料科学与工程系	1	31	1.0	1.0