脉冲激光溅射合成八-(甲基硅倍半氧烷)

• 作者: 周勇 周异男 闫福林
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光溅射 合成 硅氧烷
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 技术开发
• 页码范围: 28-29
• 页数: 2页
• 分类号: O432.1
• 字数: 1555字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1124.2000.04.012

摘要

以脉冲激光溅射作用于聚甲基硅氧烷,经真空升华,直接得到了一种产物的单晶.经X-射线晶体衍射测定确定其为具有(CH3SiO1.5)8组成的硅氧烷.该种产物具有多环立体空间构型.结果表明,在脉冲激光的作用下,反应物的链状结构发生解离,并在等离子体条件下进行结构重组,生成了具有立体空间构型的产物.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫福林	新乡医学院基础部平原大学教务处	76	341	11.0	15.0
2	周异男	新乡医学院基础部平原大学教务处	5	6	2.0	2.0
3	周勇	新乡医学院基础部平原大学教务处	2	4	1.0	2.0