用气相沉积方法在低气压下制备BN的高压相:E-BN、c-BN、w-BN

• 作者: 何志 朱品文 赵永年 邹广田
• 来源期刊: 高压物理学报
• 关键词: E-BN c-BN薄膜 相变 高压相材料
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 111-114
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5773.2000.02.005

摘要

用射频磁控溅射方法得到了低应力立方氮化硼薄膜.红外光谱结果表明,薄膜具有很好的附着力,且含有少量的E-BN和w-BN.电子衍射谱表明薄膜表层是纯立方相.同时利用此方法得到了E-BN薄膜.认为在薄膜生长过程中可能经历了一个从E-BN到c-BN的相转变过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹广田	吉林大学超硬材料国家重点实验室	71	390	9.0	16.0
2	朱品文	吉林大学超硬材料国家重点实验室	18	91	6.0	8.0
3	赵永年	吉林大学超硬材料国家重点实验室	23	119	7.0	9.0
7	何志	吉林大学超硬材料国家重点实验室	12	86	6.0	9.0