利用表面活性剂有效去除ULSI衬底硅片表面吸附颗粒

• 作者: 刘玉岭 古海云
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 硅片 表面吸附 颗粒 非离子表面活性剂
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 页码范围: 298-302
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1627字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2000.04.014

摘要

利用表面活性剂特性,通过改变硅片和颗粒表面ξ-电势来改变硅片表面和颗粒间静电力极性,有效地控制硅片表面颗粒吸附状态长期处于易清洗的物理吸附状态,在微电子清洗技术上实现了重要突破.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭		263	1540	17.0	22.0
2	古海云		2	4	1.0	2.0