离子注入Cu薄膜的氧化行为研究

• 作者: 柳百新 赵新清
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Cu薄膜 离子注入 Cr 氧化
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 页码范围: 1187-1191
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 2509字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2000.11.016

摘要

研究了用强流金属蒸汽弧离子源(MEVVA源)注入Cr对Cu薄膜的抗氧化性能、导电性能和氧化特征的影响.利用X射线衍射、Rutherford背散射和扫描电镜研究了离子注入前后氧化物结构和氧化物形态演变.结果表明,在薄膜的表面层注入一定剂量的Cr能有效地改善Cu薄膜的抗氧化性能,而对薄膜的电导性能无显著影响;离子注入显著影响薄膜表面氧化铜的结构和形态.探讨了离子注入对氧化铜结构和形态的影响机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵新清		8	63	4.0	7.0
2	柳百新	清华大学材料科学与工程系	9	30	4.0	5.0