GeSi/Si异质结红外摄像器

• 作者: 贾正根
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 肖特基势垒 GeSi异质结 红外摄像器 光谱响应 量子效率
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 207-212
• 页数: 6页
• 分类号: TN21
• 字数: 1552字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2000.03.009

摘要

论述了单片512×512像素的GeSi/Si异质结红外摄像器.它的工作原理和PtSi/Si肖特基势垒红外摄像器一样.制造GeSi/Si异质结采用分子束外延法,在Si片上生长GeSi膜.该膜有理想的应力.文章评价了Ge成份、掺杂浓度、GeSi膜厚和光谱响应的关系.研究表明器件的最佳工作波长为8～12 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾正根		39	139	5.0	11.0