半导体金刚石膜的磁阻效应

• 作者: 廖克俊 王万录 王必本
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 磁阻效应 CVD
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 75-78
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1722字
• 语种: 中文

摘要

研究了在硅上P型异质外延金刚石膜的磁阻效应.实验结果表明金刚石膜有显著的磁阻反应,并与磁阻器件的结构有关.在室温下圆盘形结构的磁阻相对变化在5T磁场下约为0.85,而长条形结构只有0.40.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王万录	重庆大学应用物理系	109	849	16.0	22.0
2	廖克俊	重庆大学应用物理系	66	513	12.0	19.0
3	王必本	重庆大学应用物理系	15	91	5.0	9.0