等离子体原子发射光谱/质谱在新型陶瓷材料分析中的应用

• 作者: 廖振环 彭天右 江祖成 秦永超 胡斌
• 来源期刊: 分析科学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 等离子体原子发射光谱 等离子体质谱 进样技术 新型陶瓷材料
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 综述与评论
• 页码范围: 69-75
• 页数: 7页
• 分类号: O657.31|O657.63|TQ174.18
• 字数: 2796字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-6144.2000.01.019

摘要

本文对近几年来等离子体原子发射光谱(ICP-AES)和等离子体质谱(ICP-MS)在新型陶瓷材料分析中的应用进行了评述,讨论了应用ICP-AES/MS技术测定陶瓷材料中痕量杂质的各种进样技术.引用文献60篇.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	江祖成	武汉大学化学系	55	955	18.0	30.0
2	胡斌	武汉大学化学系	77	1226	20.0	32.0
3	彭天右	武汉大学化学系	31	466	9.0	21.0
4	秦永超	武汉大学化学系	15	325	10.0	15.0
5	廖振环	武汉大学化学系	9	107	4.0	9.0