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摘要:
采用脉冲激光沉积技术在氧气氛中制备了Ga2O3薄膜。X射线衍射表明薄膜属于β单斜晶系,薄膜的颗粒在纳米量级;原子力显微镜显示随着氧气压强的增加,薄膜颗粒增大。测定了薄膜的光致发光,发现沉积时氧气压强的增加可以提高 纯Ga2O3薄膜的发光强度,且峰位红移。Ga2O3靶物质中掺杂少量的CeO2后所得到的薄膜,其发光强度可以明显地增加。此外,还利用发光光谱技术研究了由激光 烧蚀所产生的羽状物中Ga原子或离子的氧化反应。
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内容分析
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文献信息
篇名 Ga2O3薄膜的光致发光及激光烧蚀产物的分布
来源期刊 化学物理学报 学科 物理学
关键词 光致发光 薄膜 脉冲激光沉积 Ga2O3
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 25-30
页数 6页 分类号 O484
字数 3249字 语种 英文
DOI 10.3969/j.issn.1674-0068.2000.01.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 秦启宗 复旦大学激光化学研究所 29 260 10.0 15.0
2 唐永新 复旦大学激光化学研究所 2 1 1.0 1.0
3 杨新菊 复旦大学激光化学研究所 3 4 2.0 2.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
光致发光
薄膜
脉冲激光沉积
Ga2O3
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
化学物理学报(英文版)
双月刊
1674-0068
34-1295/O6
大16开
合肥中国科学技术大学化学物理学报编辑部
1988
eng
出版文献量(篇)
2451
总下载数(次)
0
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