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用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜
用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜
作者:
廖显伯
邓勋明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
类金刚石碳膜
等离子体化学气相沉积
光学性能
摘要:
本文报道用 RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC)膜.研究了氢稀释、气体压力和 RF 功率对薄膜性质的影响. 用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质.结果表明,这样制备的DLC膜是无定形态的,包含了大量的C-H键,具有良好的透明性.厚度为230nm的DLC膜在480nm后的可见光区和近红外区的透过率大于83%,所导出的Tauc光学带隙在2.7eV和3.7eV之间.本文还探讨了应用这种DLC膜作为二次电子发射材料的可能性.
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类金刚石膜研究进展
类金刚石膜
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内容分析
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关键词热度
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文献信息
篇名
用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜
来源期刊
人工晶体学报
学科
物理学
关键词
类金刚石碳膜
等离子体化学气相沉积
光学性能
年,卷(期)
2000,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
220-223
页数
4页
分类号
O484.1
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-985X.2000.03.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
邓勋明
1
6
1.0
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节点文献
类金刚石碳膜
等离子体化学气相沉积
光学性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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