宽带隙薄膜材料场电子发射研究的背景、现状和问题

• 作者: 刘小平 贺德衍 邵乐喜 陈光华
• 来源期刊: 物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 场电子发射 宽度隙薄膜材料
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 知识和进展
• 页码范围: 278-282
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 4375字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0379-4148.2000.05.005

摘要

介绍了以金刚石为代表的宽带隙薄膜材料场电子发射研究背景和现状,对金刚石、类金刚石(DLC)、立方氮化硼(c-BN)、氮化铝(AlN)和碳化硅(SiC)薄膜场电子发射研究的进展进行了评述,着重介绍了发射性能与薄膜的结构特征、杂质含量和处理方法间的关系,并讨论了研究中存在的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺德衍	兰州大学物理系	68	559	13.0	19.0
2	陈光华	北京工业大学应用物理系	65	396	11.0	16.0
3	邵乐喜	兰州大学物理系	1	20	1.0	1.0
4	刘小平	湛江师范学院物理系	11	60	5.0	7.0