LIGA技术X光深层光刻工艺研究

• 作者: 伊福廷 周狄 李昌敏 章吉良 郭晓芸 陈迪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: LIGA技术 X光深层光刻
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 66-69,61
• 页数: 5页
• 分类号: TP271
• 字数: 3027字
• 语种: 中文

摘要

通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究,获得了侧壁光滑、陡直,厚度达100μm,深宽比达20的光刻胶和金属微结构,表明该光束线适用于LIGA技术的研究.